光干渉式膜厚測定装置『TohoSpec3100』
R&D分野において利用出来る特長を兼ね備えた光干渉式膜厚測定装置!
『TohoSpec3100』は、ナノメトリクス社より技術移管された 光干渉式膜厚測定装置です。 多数の納入実績を誇る業界標準機で、測定再精度2Å以下を実現、 リニアアレー受光素子を採用。 …
薄膜ストレス測定装置『FLXシリーズ』
大学・ラボなどで研究用として多く活用されている薄膜ストレス測定装置
『FLXシリーズ』は、レーザ光線により非接触・非破壊で、薄膜ストレスを 高密度に安定して測定できる装置です。 波長の違う2種類のレーザーを自動選択し、様々な基板、膜種に対応。 半導体産業…
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