両面研削機や研磨機、CMP装置のことならお任せください。
研削、研磨、切断、各分野のお客様より高い評価をいただき、
フアイングラインヂング、ラッピング・ポリッシング関連装置、半導体関連、ダイシングマシンと裏面研削機なとをの技術開発を行い、確かな信頼のもとで製品を提供してまいりました。
基本情報CMP装置 POLI-400
【特長】
・R&D用の小型CMP装置 プラテンφ400 4,6inchウェハー対応
・安定した加工再現性と維持費の低減が得られます
・6～12inch対応の機種も有ります
切削機・研磨機に関してはお問い合わせください。
| 価格情報 | ****** |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | POLI-400 |
| 用途／実績例 | ※詳細はお問い合わせください。 |
詳細情報CMP装置 POLI-400
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CMP装置 POLI-400
CMP装置 POLI-400の内部写真です。
カタログCMP装置 POLI-400
取扱企業CMP装置 POLI-400
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両面研削盤、両頭研削盤、ラッピング・ポリッシング関連装置、自動化装置製作
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