富士ハイテック株式会社 乾燥装置 加熱真空乾燥装置
- 最終更新日：2011-01-27 14:03:07.0
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減圧中も加熱する為、製品の昇温が早く、乾燥時間が短縮
加熱真空乾燥装置は、乾燥速度が速い為、シミが出難く、錆・腐食の発生も少なくなっております。
基本情報乾燥装置 加熱真空乾燥装置
【特徴】
○乾燥槽サイズ：φ450～φ750×150H～400H
○スライド式蓋の為、長時間使用でも疲れない
○タッチパネル画面で操作も簡単
●その他機能や詳細については、お問い合わせください。
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| 用途／実績例 | 【用途】 ○各種乾燥処理 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください |
取扱企業乾燥装置 加熱真空乾燥装置
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■各種製造 工業用洗浄装置 真空超音波洗浄装置 真空脱気装置 真空乾燥装置 超音波発振装置 キノコ生産省力化装置 殺菌釜、プラスチックパレット、アルミパレット 菌かき機、かき出し機、接種機、ミキサー ハンドリングマシン、各種コンベヤ パレタイザー、棚差し機 食品 熱水シャワー調理殺菌装置、自動搬送システム
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