佐藤真空株式会社 グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ http://www.ipros.jp/public/product/image/921/2000063742/IPROS2329064657876176196.jpg 【特長】 ○小型 ○コストダウンを実現 ○多様な処理パターンに対応可 ○安全装置装備 【主仕様】 ○炉芯管 →透明石英管(加熱温度100~1000℃) →アルミナ管(加熱温度1000~1400℃) ○反応ガス供給:2~60sccm →(水素、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、ベンゼン等) ○圧力コントロール:5~100Pa ○可燃性ガス大気放出対策 →エジェクタにより可燃混合範囲以下にエアで希釈排気 ●詳しくは、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。 佐藤真空株式会社 機械部品 > 真空機器 > 真空機器 SFCV シリーズ *****
グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ 製品画像

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ 製品画像

大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した、管状炉式の高温熱CVD 装置

少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、
同時に大幅なコストダウンを実現しました。
また、従来小型では困難とされてきた5~100Pa での圧力コントロール機能を備え、
より多様な処理パターンに対応可能としました。
さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、
大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。
詳しくは、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。

基本情報グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

【特長】
○小型
○コストダウンを実現
○多様な処理パターンに対応可
○安全装置装備

【主仕様】
○炉芯管
→透明石英管(加熱温度100~1000℃)
→アルミナ管(加熱温度1000~1400℃)
○反応ガス供給:2~60sccm
→(水素、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、ベンゼン等)
○圧力コントロール:5~100Pa
○可燃性ガス大気放出対策
→エジェクタにより可燃混合範囲以下にエアで希釈排気

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価格 *****
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発売日 取扱い中
型番・ブランド名 SFCV シリーズ
用途/実績例 詳細は、お問い合わせ下さい。
よく使用される業種 化学、産業用機械、民生用電気機器、産業用電気機器、試験・分析・測定、IT・情報通信、医薬品・バイオ

カタロググラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ 表紙画像

少量・小サイズのテストピースが簡単な操
作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。
また、従来小型では困難とされてきた5~100Pa での圧力コントロール機能
を備え、より多様な処理パターンに対応可能としました。さらに炭化水素系の
可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、大気放出ガス希釈ユニット
などの安全装置を備えています。

取扱企業グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

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