表面電荷分析装置 SCA2011 日本セミラボ

表面電荷分析装置

表面電荷分析装置は、半導体前工程管理とりわけ熱酸化膜、ＣＶＤ膜形成、メタライゼーション、洗浄及びエッチングなどプロセス中に生じた汚染とダメージのモニタリングに最適です。

関連リンク - http://www.semilab-j.jp/

基本情報表面電荷分析装置 SCA2011

ウェハー表面電荷量及び界面準位密度の測定
　　■酸化膜工程
　　　・ウェハー汚染やプラズマ損傷による酸化膜中　　　　電荷量の変化
　　　・熱ストレス等による界面準位密度の変化
　　　・窒化酸化膜中の固定電荷モニター
　　■洗浄工程管理
　　　・ウェハー洗浄後の表面状態の電荷量チェック
　　■ＣＶＤ工程管理
　　　・膜中トラップ電荷状態のチェック

価格情報	お気軽にお問い合わせください。
納期	お問い合わせください ※お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名	SCA-2011
用途／実績例	■非破壊リアルタイムプロセスモニター・工程管理直後測定可能・電極形成不要・モニターウェハーの再生使用可能・高速測定　→　＜１点／分・簡易操作

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取扱企業表面電荷分析装置 SCA2011

日本セミラボ株式会社新横浜本社

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