株式会社ナノテック 両面同時露光マスクアライナー BS320

ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応!

両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

基本情報両面同時露光マスクアライナー BS320

【特徴】
○デザインルール3μm
○ランプハウス2基搭載でウェハ表裏同時露光(一次露光のみ)
○最大φ4インチウェハ対応
○左右対物レンズ間隔最小8mmで小型試料に対応(オプション)
○上下マスクのアライメント時には下方からの透過式照明が利用可能
○コンパクト設計
○フットスイッチによりセミオート運転が可能(1次露光時)
○手置き式のため規格外形状試料への対応が容易
○ウェハ位置決めガイド搭載(オプション)
○アライメントマークの多点観察用顕微鏡XY軸ステージ(オプション)

【仕様】
○適用マスク:最大口5インチ
→マスク・ウェハサイズ変更は上下マスクホルダー交換
○露光性能:有効露光範囲φ105mm Hgランプ250W
○UV照度
→上側約15mW/cm2以上
→下側15mW/cm2以上(at365nm)
→照度均一度約±10%
○露光解像度:ライン&スペース3μm
→デバイスの最終加工精度ではありません。
○露光方式:コンタクト方式(コンタクト圧可変式)
→ウェハ上面のみプロキシミティ露光可能

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カタログ両面同時露光マスクアライナー BS320

取扱企業両面同時露光マスクアライナー BS320

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株式会社ナノテック

半導体製造装置 マスクアライナー、スピンナー、デベロッパーの開発・販売。 MEMS マイクロマシン開発支援装置の開発・販売。 医療用光学器械、手術用顕微鏡、内視鏡

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