株式会社富士アールアンドディー 実験用小型スパッタリング装置

ターゲットを3種取付可能!真空中で基板を自動搬送します!

真空引きから基板の搬送、スパッタリングまでを自動で行います。
小型設計ので、スペースを取らず実験装置として最適です。

~特徴~
・メインポンプはターボ分子ポンプを使用しています。
・スパッタリングを行う成膜室と、成膜後に取り出す部屋をゲートバルブ で仕切っています。基盤をセット後、真空中で自動搬送します。
・ターゲットは3種まで取付可能です。
・基板は自動回転機構で、設定した順にターゲットの下に移動し、
 成膜します。

基本情報実験用小型スパッタリング装置

メインポンプはターボ分子ポンプを使用しています。
スパッタリングを行う成膜室と、成膜後に取り出す部屋をゲートバルブで仕切っています。基盤をセット後、真空中で自動搬送します。
ターゲットは3種まで取付可能です。基板は自動回転機構で、設定した順にターゲットの下に移動し、成膜します。

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用途/実績例 ・金・白金・チタンの成膜

カタログ実験用小型スパッタリング装置

取扱企業実験用小型スパッタリング装置

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株式会社富士アールアンドディー

▼真空装置・パーツ ・チャンバー制作 ・排気装置・蒸着装置・スパッタリング装置等 ・真空熱処理炉・含浸装置・脱ガス装置等 ・制御盤、電気、制御系の製作、改造 ▼ラップ盤・ポリッシュ盤の改造、オーバーホール ・特殊仕様機制作 ・両面機、片面機オーバーホール ・改造工事(定寸、リニア加圧等) ▼研究開発用機械・パーツ ・特殊加工機 ・特殊部品 ・各種金属溶接、加工 その他、多種の案件に柔軟に対応致します。

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