バルブ「半導体製造装置用ゲートバルブ300mm(12inch)」入江工研

駆動機構の部品数削減！半導体製造装置用に開発した高真空ゲートバルブ

300mm　半導体製造装置用ゲートバルブをあらたに開発致しました。
カム方式による one-action valveの機構を採用し、コンパクト化、メンテナンス性向上、及び低価格化を実現しました。
高速駆動対応により、タクトタイム短縮が可能です。

【特徴】
○無摺動機構の採用で装置内をクリーンな状態に保持
○弁板シール部は独自の溝形状により、メタルコンタクトの防止など
　クリティカルなアプリケーション下でも安定したシール性を確保
○実績豊富なカム方式による駆動方法で、安定したシール性能を確保
○長寿命に対応した品質と信頼性を確保

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関連リンク - http://www.ikc.co.jp/

基本情報バルブ「半導体製造装置用ゲートバルブ300mm(12inch)」

【仕様】
○使用圧力範囲：大気圧～1×10^-6 Pa
○ヘリウムリーク量　本体：1×10^-10 Pa・m3/s以下
　　　　　　　　　　弁板：1×10^-10 Pa・m3/s以下
○対応差圧力：正圧、同圧、逆圧
○メンテナンスサイクル：1×10^6 回（弁板 O-Ringは除く）
○材質（弁箱、弁板）：SUS又はA5052

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