固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-9000シリーズ』 JSWアフティ

低温プロセス　高屈折率制御　高速反応性成膜　緻密・平坦膜

『AFTEX-9000シリーズ』は、低温・低ダメージで高品質なナノ薄膜形成を
実現可能な装置です。

基板サイズ8インチ対応、ECRプラズマ源を3基まで搭載可能で、これらを
同時に稼動することにより生産性を大幅に向上することができます。

ナノ薄膜形成には是非当社製の装置をお使い下さい。

【特長】
■8インチ対応のECR成膜モジュールを最大３基接続可能な
　本格的マルチチャンバ方式の C to C枚葉式全自動システム
■3基のECRプラズマによる同時成膜可能で高い生産性を実現
■レシピによる搬送フロー､成膜チャンバ､成膜プロセスの設定が可能で､
　任意の材料の多層膜を全自動で成膜可能
■基板傾斜回転と低圧成膜により、優れた均一性を実現
■装置内分光システム（オプション）で膜厚・屈折率分散等の
　測定が可能
■固体ソースからの原料粒子と高活性なECRプラズマ流を
　直接反応させるため､高価な除害設備が不要で環境に優しい

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://jsw-afty.co.jp

基本情報固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-9000シリーズ』

【ラインアップ】
■AFTEX-9600L
■AFTEX-9800

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用途／実績例	【用途】 ■半導体レーザの端面コーティング ■SAWフィルタ保護膜　など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。