JSWアフティ株式会社 固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
- 最終更新日：2023-01-23 09:49:12.0
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AFTEX-8000シリーズは、1つの成膜室に傾斜配置したECRプラズマ源を2基搭載し、高品質な光学薄膜などを最大8インチ径の基板上に均一性に優れた多層膜を形成できる、C to C枚葉式全自動多層膜形成装置です。
高活性・高密度ECR(Electron Cyclotron Resonance)プラズマ源を用い、プラズマ引き出し部にターゲットを配置することによって固体ソースによるECRプラズマ成膜を実現しています。
CVDのような危険なガスを用いる必要がないため排ガス処理の必要もなく、地球環境に優しい成膜技術です。
【特長】
■高絶縁膜特性
■多層膜
■緻密・平坦膜
■低ダメージ
■長期安定稼働
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
【真空排気系仕様】
■到達圧力
プロセスモジュール: < 3×10-5Pa
トランスファー室: < 3×10-4Pa
ロードロック室: < 3×10-4Pa
■真空排気系
プロセスモジュール: ターボ分子ポンプ 1300L/sec
ドライポンプ: 600L/min
トランスファー室: TMP 820L/sec
ドライポンプ: 500L/min
ロードロック室: TMP 350L/sec
ドライポンプ: 250L/min
■ロードロック室
手動扉: 1式
カセットエレベータ機構: 1式
試料検出機構：1式
■トランスファー室
真空搬送ロボット：1式
試料検出機構：1式
フェイスダウン搬送方式
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
取扱企業固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-8000シリーズ』
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■ナノエレクトロニクス技術、オプトエレクトロニクス技術およびメカトロニ クス技術の先端技術を応用した各種装置の設計、製造、販売、検査、据付、 修理、点検、保守部品供給、中古装置の斡旋業務および、これに付帯する業務
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