『KUD-152 Mk-II』は、本体内部に電解研磨処理を施し、超高真空領域まで
使用可能な直線導入機です。
有効内径φ108mmを設けることが可能となる為、内部のスペースを
有効に使用できます。
φ125ｍｍのハンドルを設け、ギヤにて回転トルクを落とすことで、
上下操作を軽く行うことができます。
他の回転導入機などと組み合わせる事で、搬送ラインの調整を
行うことも可能です。
【特長】
■側面のメモリスケールを使用し0.1ｍｍでの位置決めが可能
■モーター駆動ユニット追加で更に精密な位置決めが可能
■駆動方式ベローズタイプで、200℃までのベーキングが行える
■背板にリブを設けフランジ間のたわみを軽減
詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』
【仕様】
■Z軸移動量：222±25ｍｍ
■位置決め精度：0.1ｍｍ
■許容リーク量：1.3×10⁻¹⁰Pa・m³/sec
■許容加熱温度 ≦200℃
■接続フランジ 上部：ICF152-FT
■接続フランジ 下部：ICF152-FH
■有効内径：φ108ｍｍ
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格情報 | お問い合わせください。 |
|---|---|
| 納期 |
お問い合わせください
※お問い合わせください。 |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■位置決め ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』
取扱企業上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』
-
-
最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品（フランジ・継手類、他） 《ＰＶＤ／ＣＶＤ装置》 ◆有機ＥＬ材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機ＴＦＴ開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置（ＭＢＥ） （化合物半導体・窒化物・酸化物） ◆有機金属気相成長装置（ＣＶＤ） 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置（ＦＩＭ） ◆電子エネルギー分析システム（ＣＭＡ） ◆ＴＥＭホルダー（加熱／低温） ◆ＵＨＶレーザー顕微鏡装置 ◆３次元アトムプローブ装置（３ＤＡＰ）
上下機構(ICF152タイプ)『KUD-152 Mk-II』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
