株式会社魁半導体 大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

室温・大気圧環境でガラス薄膜を形成!

室温、大気圧環境でガラス薄膜の形成が可能となりました。
携帯電話の保護フィルムからガラスまで、幅広い対象物へ処理可能です。
少ない塗料でも効率のいい塗装も可能!

基本情報大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

装置名:TEOS+O3-100
薄膜形成方法: ESC(Electro Spray Coating)法により薬液を噴霧、オゾン雰囲気下での重合反応によりガラス系薄膜を形成。
ESC法の特徴: 高電圧を印加した注射針の先から塗料や薬液を供給することで、液体が電荷を持つ微細な液滴(霧)となり、対向電極(被処理物)に向けて飛行し、薄く・均一な膜が形成できる。少ない塗料でも効率の良い塗装が行える。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ・ガラス代替ポリカへの保護膜形成
・携帯電話の画面保護フィルム
・親水コーティング
・塗装、印刷、コーティングの前処理コーティング

取扱企業大気圧薄膜形成装置TEOS+O3-100

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株式会社魁半導体

・液体ソースを用いた堆積装置、表面改質装置等を含むプラズマを用いた各種半導体製造装置の開発、および製造販売 ・工業用石英ガラスの販売、および加工 ・委託研究による半導体製造装置の開発および製造販売 ・堆積代行、エッチング代行 ・半導体プロセスのコンサルティング業務

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