当社では、ロータリーポンプとターボ分子ポンプを用いて、
MAX450℃・48時間の真空加熱脱ガス処理が可能です。
良質な真空実験環境を実現するためには、真空容器の内壁面及び素材内部
から放出されるガス（分子）が大きな障害となります。
このような悪影響を及ぼす放出ガスについては、真空容器本体や使用する
部品等を製造段階において、予め真空中での高温ベーキング処理を
施すことによって解決することができます。
【作業内容】
■開梱・現物確認（図面との照合）
■バッチ数確認
■処理
■冷却
■取り出し・梱包
■出荷
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報『真空加熱脱ガス処理』
【仕様】
■ワーキング寸法：700×700×700(mm)
■到達圧力：≦1.0E-5(Pa)
■加熱温度：200～450℃
■処理時間：～48h
■冷却方式：自然冷却 又は 窒素ガス導入冷却
■排気系：ロータリーポンプ及びターボ分子ポンプ
■提出資料：処理前画像及び温度勾配データ
■備考
・製品図面のご送付をお願い致します。
・精密洗浄処理をお願い致します。
■納期：製品お預かり後 1～2週間
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ『真空加熱脱ガス処理』
取扱企業『真空加熱脱ガス処理』
-
-
最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品（フランジ・継手類、他） 《ＰＶＤ／ＣＶＤ装置》 ◆有機ＥＬ材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機ＴＦＴ開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置（ＭＢＥ） （化合物半導体・窒化物・酸化物） ◆有機金属気相成長装置（ＣＶＤ） 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置（ＦＩＭ） ◆電子エネルギー分析システム（ＣＭＡ） ◆ＴＥＭホルダー（加熱／低温） ◆ＵＨＶレーザー顕微鏡装置 ◆３次元アトムプローブ装置（３ＤＡＰ）
『真空加熱脱ガス処理』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
