ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置のカスタマイズ製作を行います
創意工夫を大切にし、時流に流されない研究開発を続けるナノテックが
取り扱う『各種真空成膜装置』をご紹介します。
当社では、ユーザーのニーズに合う多種多様な真空装置の
カスタマイズ製作を行います。
HIPIMS法による成膜を行う「ICF成膜装置」をはじめ、半導体プラズマ洗浄用
プラズマエッチング装置「NAPE500」などをご用意しております。
【ラインアップ】
■ICF成膜装置
■プラズマエッチング装置「NAPE500」
■パルスバイアス実験装置「ICF330」
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報『各種真空成膜装置』
【特長】
＜ICF成膜装置＞
■HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）法による成膜
■高出力でスパッタされた粒子が基材に衝突することにより、
高い密着と硬度を特長とする緻密な膜成形を実現
■高速成膜も可能
■フィルムへの大面積、フレキシブル成膜可能
■基板温度制御－50～120℃まで対応
■フィルムシートへのインライン成膜への対応も可能（オプション）
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| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
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