MSHシステムズ株式会社 レーザー分散用プリズム

非常に低いゲインのレーザー遷移でも動作するレーザーキャビティ内で使用可能なレーザー分散プリズム

レーザー分散プリズムは、わずかな反射損失でも許容できない、非常に低いゲインのレーザー遷移でも動作するレーザのキャビティ内で使用可能です。

・波長で光を分離
・入口および出口ビームがブリュースター角で通過

様々なコーティング、カッティング、エッジング、ドリリングでカスタマイズ対応も可能です。

基本情報レーザー分散用プリズム

レーザー分散プリズムは、わずかな反射損失でも許容できない、非常に低いゲインのレーザー遷移で動作するレーザのキャビティ内で使用可能です。

・材質 : BK7、UVFS、SF11
・設計波長 : 800 nm
・頂角公差 : ±2 arcmin
・波面歪曲 : λ/4 @ 633 nm
・表面精度 : 40-20 scratch & dig (MIL-PRF-13830B)

価格帯 1万円 ~ 10万円
納期 お問い合わせください
※納期が変動しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途/実績例 ・波長で光を分離

ラインナップ

型番 概要
■ BK7モデル
320-0110 最大入射ビーム径 6.0 mm、幅 15 mm、厚み 10 mm、頂角 67°
320-0218 最大入射ビーム径 12.0 mm、幅 25 mm、厚み 18 mm、頂角 67°
320-0525 最大入射ビーム径 22.0 mm、幅 50 mm、厚み 25 mm、頂角 67°
■ UVFSモデル
320-1110 最大入射ビーム径 6.0 mm、幅 15 mm、厚み 10 mm、頂角 69°
320-1218 最大入射ビーム径 12.0 mm、幅 25 mm、厚み 18 mm、頂角 69°
320-1525 最大入射ビーム径 22.0 mm、幅 50 mm、厚み 25 mm、頂角 69°
■ SF11モデル
320-8110 最大入射ビーム径 6.0 mm、幅 15 mm、厚み 10 mm、頂角 59°
320-8218 最大入射ビーム径 12.0 mm、幅 25 mm、厚み 18 mm、頂角 59°
320-8525 最大入射ビーム径 22.0 mm、幅 50 mm、厚み 25 mm、頂角 59°

取扱企業レーザー分散用プリズム

MSHシステムズ株式会社

光関連・レーザー製品等、科学機器の輸出入および販売 光関連・レーザー製品等、科学機器の企画、製造および販売 各種システム、ソフトウェア等の企画、開発

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