株式会社フォトニックラティス 膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『MEシリーズ』
- 最終更新日：2020-02-07 11:40:43.0
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微小領域測定、透明基板対応など、様々な膜厚分布測定に対応！高速マッピングエリプソメータ
『MEシリーズ』は、1nm以下の膜厚変化も高速・高密度に面測定が可能な
膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータです。
φ8“ウェハまで全面測定可能。微小領域測定、透明基板対応など、様々な
膜厚分布測定に対応します。
独自開発のPCAセンサーにより、瞬時測定や移動中のサンプルの測定が可能。
より短時間により高精細な膜厚分布情報が得られます。
【特長】
■最大毎分1,000ポイント以上の超高速測定でウェハ全面測定
■50μm角の微小領域の膜厚/屈折率測定が可能
■ガラス基板上の1nm厚の極薄膜測定を実現
■当社独自のフォトニック結晶技術を応用した偏光センサを内蔵
■任意線上の折れ線グラフや、任意領域のヒストグラムなどを瞬時に作製可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『MEシリーズ』
【その他の特長】
■グラフデータをcsvデータ形式で出力、Excelなどで表示、分析可能
■膜厚分布データはボタンクリック1つで、3D表示が可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【測定事例】 ■スピンコートしたレジスト膜厚分布 ■表面酸化層の膜厚分布 ■有機層の膜厚分布 ■透明基板上の膜厚分布 ■微小領域測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『MEシリーズ』
取扱企業膜厚分布/屈折率分布 計測エリプソメータ『MEシリーズ』
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フォトニック結晶光学素子の設計・製造・販売 光学計測機器の設計・製造・販売 （偏光計測装置、偏光ハイスピードカメラ、赤外線ハイスピードカメラなど） 受託計測 （材料試験、サーモグラフィ、各種役務）、 特殊機材レンタルサービス
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