遷移領域での高速成膜が可能！発光状態を、リアルタイムに、連続してモニターし記録
『EMICONシリーズ』は、遷移領域での高速成膜を実現した
プラズマエミッションモニターです。
高分解能による測定とコントロールのほか、ノイズを差引いた正確な測定と
コントロールが可能。
発光状態を、リアルタイムに、連続してモニターし記録するプラズマ発光の
リアルモニターを搭載し、Lineのintegral（積分）測定によるプロセスの
PIDコントロール/1000チャンネル以上の納入実績があります。
【特長】
■遷移領域での高速成膜
■高分解能による測定とコントロール
■ノイズを差引いた正確な測定とコントロール
■プラズマ発光のリアルモニター
■発光の同定
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報プラズマエミッションモニター『EMICONシリーズ』
【プロセスコントロール】
■リアクティブスパッタプロセス
・遷移領域での高速で均一な成膜
・レシピ切替だけで他のプロセス制御に変更
■エッチングプロセス：エンドポイントの測定と外部出力
■プロセス異常の検出：リーク検出と外部出力
■トラブルの原因調査と解決：記録した正常時のデータと比較し、短時間で原因を断定
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログプラズマエミッションモニター『EMICONシリーズ』
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