5軸ステージ制御による3次元形状へのマスクレスフォトリソグラフィを実現！
『3次元形状レーザ露光装置』は、5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成により
様々な形状へ微細パターニングが可能です。
半導体レーザによる直接露光を行いますので、メタルマスクが不要で、研究・開発の
時間短縮、予算低減へ貢献します。
また、専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込できます。
【特長】
■5軸ステージ（直進3軸、回転2軸）構成
■様々な形状へ微細パターニングが可能
■メタルマスクが不要で、研究・開発の時間短縮、予算低減へ貢献
■専用変換ソフトにより2D、3D CADで制作したデータを読込可能
■アライメント補助機により、容易な立体構造サンプルの位置合わせが可能
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報3次元形状レーザ露光装置 ※開発中
【仕様（抜粋）】
■光源：375nm 半導体レーザ
■最小線幅：15μm（目標5μm）
■使用対物レンズ：X2 長作動対物レンズ（x10 レンズによる対物レンズについても開発中）
■最大ワークサイズ：一辺が100mm以下の立方体
■装置寸法：W1000×H1800×D900
■オートフォーカス
・露光時：赤色レーザによる三角測量法
・アライメント時：カメラ画像によるコントラスト法
■機能：位置・角度アライメント、観察機構
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 【用途】 ■IoT、IoH（Internet of Human）デバイス ■スマートフォン ■自動運転などのセンシング ■マイクロエレクトロニクス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ3次元形状レーザ露光装置 ※開発中
取扱企業3次元形状レーザ露光装置 ※開発中
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