Hellma Materials Japan株式会社 フッ化カルシウム(CaF2)
- 最終更新日:2021-07-09 10:36:01.0
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紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料
当社の『フッ化カルシウム(CaF2)』は、長年に渡って半導体製造における
マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。
エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に
その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。
ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【特長(Lithotec(R) CaF2)】
■深紫外130nm~赤外8μmの広波長域に対する高透過率
■低い屈折率(nd=1.43384)
■低いスペクトル分散(vd=95.23)
■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性
■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性
■直径420mmと大型の結晶
※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
基本情報フッ化カルシウム(CaF2)
【ラインアップ】
■IC Lithoタイプ:エキシマレーザー、半導体製造装置用光学部品
■Non-Lithoタイプ:顕微鏡、測定装置、カメラ等の映像系光学部品
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価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【用途】 ■紫外線、赤外線光学装置 ■航空宇宙用の光学装置 ■顕微鏡 ■分光計 ■レーザー窓 ■エキシマレーザー ■マイクロリソグラフィー光学系 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 |
カタログフッ化カルシウム(CaF2)
取扱企業フッ化カルシウム(CaF2)
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