Hellma Materials Japan株式会社 フッ化カルシウム(CaF2)

紫外線/可視光/赤外線アプリケーション向けの光学材料

当社の『フッ化カルシウム(CaF2)』は、長年に渡って半導体製造における
マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。

エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に
その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。

ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。

【特長(Lithotec(R) CaF2)】
■深紫外130nm~赤外8μmの広波長域に対する高透過率
■低い屈折率(nd=1.43384)
■低いスペクトル分散(vd=95.23)
■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性
■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性
■直径420mmと大型の結晶

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

基本情報フッ化カルシウム(CaF2)

【ラインアップ】
■IC Lithoタイプ:エキシマレーザー、半導体製造装置用光学部品
■Non-Lithoタイプ:顕微鏡、測定装置、カメラ等の映像系光学部品

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価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【用途】
■紫外線、赤外線光学装置
■航空宇宙用の光学装置
■顕微鏡
■分光計
■レーザー窓
■エキシマレーザー
■マイクロリソグラフィー光学系

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カタログフッ化カルシウム(CaF2)

取扱企業フッ化カルシウム(CaF2)

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Hellma Materials Japan株式会社

【取扱品目】 <結晶材料>  ■光学材料   ・フッ化カルシウム   ・フッ化バリウム   ・レーザー結晶   ・CVD製法 硫化亜鉛/クリアトラン   ・CVD製法 セレン化亜鉛  ■放射線検知用結晶

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