ガス分析用質量分析装置 ASTON Plasma アトナープ

フィラメント交換不要のイオン源搭載！半導体プロセスガスモニタリングに好適な高感度質量分析装置

『ASTON Plasma』は、ガス分析に特化した四重極型質量分析装置です。電子イオン化イオン源とフィラメント交換不要な誘導結合プラズマイオン源の両方を標準搭載しており、フィラメント交換によるダウンタイムの軽減に貢献します。

『ASTON Plasma』は、より多くの半導体アプリケーションに対応できるように、マスレンジを m/z285 まで拡張しました。プロセスガスモニタリングの質量分析装置としては、他社を凌ぐ高感度測定に成功しています。弊社従来機同様、大気圧環境下からのサンプリングも可能です。

半導体製造プロセス、工業製品製造プロセスのリアルタイムプロセスモニタとして使用いただけます。

【主なアプリケーション】
■エッチング、エンドポイントモニタ
■チェンバ汚染モニタ
■ガス除害システムの残留ガス分析
■環境モニタ
■発酵プロセスモニタ
■天然ガス分析モニタ
■Lyophilization (Freeze-Drying)

※詳しくは、sales-jp@atonarp.com へお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.atonarp.com/products/aston-semiconduct…

基本情報ガス分析用質量分析装置 ASTON Plasma

【主なハードウェア機能】
■イオン化方式：電子イオン化法／誘導結合プラズマ法
■フィラメント： Re/W または Ir/Y2O3　から選択可能
■質量分離方式：四重極型
■検出器：FC/SEM
■ポンプ：ターボ分子ポンプ、フォアポンプ※オプション
■サイズ： 400 x 240 x 325 mm
■Dwell Time： 10ms～
■検出限界：0.1ppm 感度(窒素換算)
■電源、電力：24V 350W
■質量範囲：2-285 u または 2-220 u　から選択可能
■IoT(Internet of Things)対応 Either ポート

※詳しくは、sales-jp@atonarp.com へお問い合わせ下さい。

価格情報	※詳しくは、sales-jp@atonarp.com へお問い合わせ下さい。
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	ASTON Plasma-300, 300DP、ASTON Plasma-200, 200DP
用途／実績例	※詳しくは、sales-jp@atonarp.com へお問い合わせ下さい。