半導体製造装置用面内温度分布測定ツール『T/C ウエハー』ミヤビインターナショナル

温度変化・温度分布をリアルタイムにロガーに伝達！温度特性を正確に把握することができます

『T/C ウエハー』は、ウエハの実温をリアルタイム測定できる
半導体製造装置用の面内温度分布測定ツールです。

装置側の設定温度のみではなく、実際にウエハにかかる温度分布特性を
知ることでプロセス温度設定・制御の簡略化、膜厚分布均一性の向上に貢献。

独自の埋め込み技術により、温接点位置の固体差も低減し、読み込み温度の
高い信頼性が得られます。

【特長】
■ウエハの実温をリアルタイム測定
■読み込み温度の高信頼性
■プロセス温度設定・制御の簡略化、膜厚分布均一性の向上に貢献
■独自の埋め込み技術により、温接点位置の固体差を低減
■読み込み温度の高い信頼性が得られる

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

関連リンク - http://www.miyabiinternational.com/pr2.html

基本情報半導体製造装置用面内温度分布測定ツール『T/C ウエハー』

【仕様(一部)】
■ウエハ
　・サイズ：3～12 インチ(角型ガラス基板等も対応可)
　・種類：ベアシリコン(標準)、その他膜付など特殊仕様はユーザー支給品にて対応
■測定点数：1～34点(埋め込み位置は任意でご指定可能、但し、ウエハエッジからの最小距離は5mm以上)
■コネクタ：各種対応可(Dタイプマルチコネクタ、2ピンミニコネクタ、Y型ターミナル、セラミックコネクタ、素線のみ、など)
■納期：通常4週間以内　など

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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用途／実績例	【アプリケーション】 ■PVD装置、CVD装置、拡散炉、ホットプレート、フォトレジストなど（プラズマ波が直接当たる環境下での使用は不可） ※液晶・太陽電池製造装置向けは別途お問合せ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。