テガサイエンス株式会社 【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプX線回折用吹付低温装置!

Oxford Cryosystems社製N-Helixは、液体ヘリウムを使用せずに、ヘリウムガスを用いて28Kまで冷却可能な吹付低温装置です。最小限のガス消費で、経済的に動作するよう設計されており、一般的なヘリウムガスボンベで約16時間~20時間運転することができます。マニホールドを使って複数のボンベを連結することで、長時間の実験が可能です。

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

【主な特徴】
■温度範囲:28~300K
■0.3Kの優れた温度安定性
■およそ45分で100Kに到達
■およそ75分で30Kに到達
■ヘリウムガスおよび窒素ガスのデュアルタイプ

【主な仕様】
■温度範囲:28~300K
■温度安定性:0.3K
■ヘリウムガス流量:7.5L/分(内部ガス流と外部ガス流の合計)
■窒素ガス流量:8L/分(内部ガス流と外部ガス流の合計)
■100K到達温度:約45分
■30K到達温度:約75分
■コールドヘッド重量:10.8kg

※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格情報 構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
納期 お問い合わせください
※※構成により変わります。お気軽にお問い合わせください。
型番・ブランド名 N-Helix
用途/実績例 単結晶X線回折・粉体X線回折

ラインナップ

型番 概要
N-Hexlix 温度範囲:28-300K

カタログ【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

取扱企業【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helix

company-image.png

テガサイエンス株式会社

【取扱製品】 1. 多目的真空蒸着装置 2. ナノ粒子堆積装置 3. 円二色性分散計 4. ストップトフロー装置 5. 超高感度CCDカメラ 6. X線回折CCD検出器 7. 高性能TEM用カメラ 8. 低温吹付装置 9. 極低温単軸ストレス/ひずみセル 10. IRセンサーカード 11. シンチレーター応用製品

【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helixへのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

テガサイエンス株式会社

【28K~300K・窒素&ヘリウム】吹付低温装置N-Helix が登録されているカテゴリ