住友精化株式会社 半導体用ガス

IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガスをご紹介します!

当社は1970年代にはじめて半導体グレードの高純度NH3を開発して以来、
総合化学メーカーとして培ったガスの合成・精製技術を応用して多種多様な
超高純度ガスを製造しております。

これらのガスは、成膜(CVD、ALD)、エッチング、ドーピング、エピタキシャル
成長など、様々な半導体製造プロセスに使用。

スマートフォン・ディスプレイ・太陽電池といった生活に身近な電子機器には、
IC・メモリ・パワー半導体など数多くの半導体製品が搭載されております。

住友精化は、高純度・高品質のガスを安定供給することで人々の豊かな
生活に貢献しております。

【ラインアップ(一部)】
■NH3 アンモニア
■N2O 亜酸化窒素
■CO 一酸化炭素
■NO 一酸化窒素

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報半導体用ガス

【その他のラインアップ(一部)】
■B2H6 ジボラン
■HCl 塩化水素
■SiH2Cl2 ジクロロシラン
■CH4 メタン
■C3H6 プロピレン
■C2H4 エチレン

※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 【用途】
■半導体製造

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取扱企業半導体用ガス

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住友精化株式会社

●機能性ポリマー合成技術 ●微粒子化技術

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