ホローカソードソース『HCS』フォンアルデンヌジャパン

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理を実現

『HCS』は、ホローカソードとアノードの組込みが特長の表面処理
コンポーネントです。

電子はカソードの深い溝壁の電位降下間に制限されています。これにより、
ガスのイオン化が促進され、プラズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、
電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。

シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを
実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより
低廉です。

【特長】
■ホローカソード設計、基板に依存しない
■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促進
■表面クリーニング、活性化、エッチング目的のスケーリング可能なイオン源
■薄膜のコーティングにも特定の部品設計により適用可能
■動的および静的な基板搬送に使用可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - https://www.vonardenne.biz/ja/home/

基本情報ホローカソードソース『HCS』

【メリット（抜粋）】
■シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを実現
■高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより低廉
■RFとVHFの電源選択可能
■低い電源出力
■低放電電圧で穏やかな処理を実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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用途／実績例	【用途】 ■表面処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。