ピッチ精度±0.2μm~0.5μmの加工技術。1芯から48芯など、ご要望に合わせて様々なV溝基板を提供可能です。
V溝基板は、光通信技術のキーデバイスの1つです。
光通信を、安定してより遠くに飛ばすためには、非常に高い加工精度が求められます。
弊社のV溝基板加工技術は非常に高精度で、ピッチ精度±0.2μm~0.5μmを実現します。
スプリッタ、融着接続機等に使用する光ファイバーの位置決めとして、高精度のV溝基板をご提供いたします。
高い加工精度への信頼をいただき、大手通信関係の企業様にもご提供しております。
材質、形状、寸法精度などカスタムメイドが可能です。
開発製品から量産製品に至るまで柔軟に対応いたします。
用途:光通信用部品
材質:石英ガラス・テンパックスガラス・セラミックス etc
精度:ピッチ精度 ±0.2μm~0.5μm、累積ピッチ精度 ±0.5μm~1.0μm
加工実績:1V~1500V
ピッチ:127μm・250μm 特殊ピッチにも対応いたします。
※詳しくはカタログをダウンロード、またはお問い合わせください。
基本情報【光通信技術】世界に誇るコア技術!高精度なV溝基板の加工技術
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