クラスタ化により100WPHも実現可能。ステップアンドショット方式の露光を行います
PARAMでは『電子ビーム高速描画システム』を取り扱っております。
当社が提案する「マルチコラムマルチビーム方式」の製品は、
マトリクス状に形成された微小開口と偏向電極からなるPSAにより
PSBを生成するマルチビーム方式を採用し、ステップアンドショット方式の
露光を行います。
そのため、ステージ連続移動方式に比べ、高い描画精度が期待できます。
【特長】
＜マルチコラムマルチビーム方式 Multi-axis PSB＞
■ピッチ26×33mmで87本のマルチコラムを実現
■スループットは、描画パターンのサイズ・ピッチに依存：10～16WPH
■クラスタ化により100WPHも実現可能
■ステージ連続移動方式に比べ、高い描画精度が期待できる
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基本情報電子ビーム高速描画システム
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