三明電子産業株式会社 簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essential
- 最終更新日：2010-10-01 00:00:00.0
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ナノインプリントリソグラフィー。徹底的なコストダウンで、低価格実現
高微細化、低コスト、高スループットを実現した
ナノインプリントリソグラフィー
【特徴】
○低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載
○徹底的なコストダウンにより低価格を実現
○バブル消去ガスプロセス対応
○多種モールドに対応可能
モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能
また、モールド材料は石英の他にオプションで
Ni電鋳などの他の材料も使用可能
○豊富なオプションによりアップグレードが可能
●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
基本情報簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essential
高微細化、低コスト、高スループットを実現した
ナノインプリントリソグラフィー
【特徴】
○低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載
○徹底的なコストダウンにより低価格を実現
○バブル消去ガスプロセス対応
○多種モールドに対応可能
モールドサイズ□10ｍｍから最大90mmまでの転写が可能
また、モールド材料は石英の他にオプションで
Ni電鋳などの他の材料も使用可能
○豊富なオプションによりアップグレードが可能
●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 型番・ブランド名 | ImpFlex Essential |
| 用途／実績例 | 詳細は、お問い合わせ下さい。 |
カタログ簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essential
取扱企業簡易型UVナノインプリント装置 ImpFlex Essential
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メカトロニクス制御システム・ＦＡシステムの開発・設計・製造 モーション自動制御装置・産業機械用NC装置の開発・設計・製造 ナノ微細加工制御・研究装置の開発・設計・製造 パラレルロボット／ピッキングミニロボの開発・設計・製造 板金・塗装加工設計・製造
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