●特徴
本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源（クヌーセン・セル）により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有機金属を使用するガスソースMBE装置などがございます。
基本情報分子線エピタキシー（MBE）装置
蒸着源には、弊社製金属蒸着セル（KMD-Cell）を搭載しております。また、他社製蒸着セルの搭載も可能であり、ご指示頂きました蒸着セルをご選択可能な設計をしております。超高真空対応に、標準にて液体窒素用シュラウドを装着しております。基板加熱・回転機構を装備しております。窒化物半導体や酸化物半導体は、RFアトムソースを接続する事により、成長可能です。また、蒸着チャンバーを複数ドッキング可能な設計になっており、将来的な増設等のご希望にお応えしております。
| 価格情報 | - |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ●納入実績 東京大学 、東京工業大学、（独）物質・材料研究機構、（独）産業技術総合研究所 殿 …他 |
カタログ分子線エピタキシー（MBE）装置
取扱企業分子線エピタキシー（MBE）装置
-
-
最先端技術の研究開発用精密機器の設計、開発、製造、販売。 ◆真空装置の機器・部品 ◆低温機器類の装置・部品 ◆科学機器 ◆精密部品 これらの設計開発、製作、販売及び引渡し後の保守、修理、改造、移設 【 製品一例 】 ◆真空チャンバー ◆真空部品（フランジ・継手類、他） 《ＰＶＤ／ＣＶＤ装置》 ◆有機ＥＬ材料開発用蒸着装置・機器 ◆有機ＴＦＴ開発用蒸着装置・機器 ◆有機薄膜太陽電池用蒸着装置・機器 ◆有機・金属蒸着セル ◆分子線エピタキシー装置（ＭＢＥ） （化合物半導体・窒化物・酸化物） ◆有機金属気相成長装置（ＣＶＤ） 《表面分析・評価装置》 ◆電界イオン顕微鏡装置（ＦＩＭ） ◆電子エネルギー分析システム（ＣＭＡ） ◆ＴＥＭホルダー（加熱／低温） ◆ＵＨＶレーザー顕微鏡装置 ◆３次元アトムプローブ装置（３ＤＡＰ）
分子線エピタキシー（MBE）装置へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
