医薬API粉砕装置『アペックスミルF&M』

PR金属系コンタミを大幅に抑制したビーズミル。処理速度も向上。「第26回 …

医薬品API粉砕装置『アペックスミルF&M』はミル、タンク、ポンプを一体にし サニタリー性の改善とコンタミの抑制を徹底的に追求したビーズミルです。 特許出願中の「動的シーリング機構」の採用でメカニカルシールを省略。 分解洗浄の手間を省き、スラリーへの摺動部摩耗粉の混入を防止しています。 【特長】 ■メカニカルシール不要の独自構造で金属・シール液によるコンタミを防止 ■ビーズ分離部からの金属コン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島メタル＆マシナリー ケムテック事業部

乾式散布装置「微粒子対応　分散・散布装置」

数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」

数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置…

液晶パネル製造におけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大き...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

乾式散布装置「卓上型　簡易散布装置」

数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

液晶ディスプレイにおけるスペーサ散布工程のドライ散布技術を発展させた、ナノ粒子にも対応可能な粒子の分散・散布装置です。 散布時の帯電量を元にしたフィードバック制御により、散布量の制御を行います。ノズルは固定式のマルチプレクサーノズルを使用し、ノズルを動かすことなく、エアーの切り替えのみで各方向へ均一に粒子を散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）