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スパッタリング装置に搭載する高品質な円筒ターゲット、平面ターゲット並び…
以下製法で円筒ターゲットを作製します。 1.製法:溶解材押出し一体もの 代表的材料:Ti、Al、Cu 利点:割れるリスクがない、低速回転可能 欠点:高純度品が無い 2.製法:プラズマスプレイ 代表的材料:Si、Ag、ZnAl等 利点:割れるリスクが比較的少ない、安価、 欠点:5N以上の高純度品が難しい、すができやすい、初期立上げに...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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幅広い冷却ガス圧に対応する真空熱処理炉
ルな冷却ガス上下切替機構を搭載した 高圧加圧ガス冷却横型真空炉です。 オプションとして対流加熱機能の付加が可能。 循環ファンによる対流加熱は850℃まで昇温でき、真空加熱(放射加熱)の 欠点である低温での昇温遅れを大幅に改善します。 【特長】 ■省エネルギー性を高めるため、インターナルチャンバ外表面温度を200℃以下に維持 ■開閉ドアは、クラッチ式ドアを採用し加圧下での安全性...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社IHI機械システム 本社 セールスグループ
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