• 一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末 製品画像

    一酸化ケイ素(SiO)塊・粉末

    PRサブミクロンから塊状まで幅広くカスタマイズ可能なSiOパウダー。LiB…

    当社は、リチウムイオン電池(LiB)負極材料などとして活用可能な 『一酸化ケイ素(SiO)』を提供しています。 粉末状(1~100μm)、粒状(1~5mm)、塊状(50~200mm)に対応し、 サブミクロンレベルまでカスタマイズ可能です。 1μmの粉末でSiO純度99.8%、5μmの粉末でSiO純度99.9%などの製品事例があります。 【特長】 ■製造方法:結晶化学気相成長法 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日本NER株式会社

  • 溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』 製品画像

    溶射装置『HP/HVOF JP5000/JP8000』

    PR比類のない高品質のコーティング、高い皮膜密度と密着力!均一な高い硬度、…

    『HP/HVOF Spray System JP-5000/JP-8000』は、高速フレーム溶射法の採用により、 高品質のコーティングのための基本法則「高燃焼圧力・高ガス流速・高速粒子」の溶射を実現した製品です。 粉末材料を溶融させながら基材に衝突させ、圧縮応力により皮膜を形成するため、 高い密度と密着力、硬度を持ち、酸化物含有量を抑えた皮膜を形成可能。 印刷ロールの耐食性向上や搬送スクリュー...

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    メーカー・取り扱い企業: ユテクジャパン株式会社

  • メタル3Dプリンティングシステム『Studio System2』 製品画像

    メタル3Dプリンティングシステム『Studio System2』

    多品種小ロット金属部品をより迅速に製造!オフィスでも使えるメタル3Dプ…

    『Studio System2』は、MIM(Metal Injection Molding/金属粉末射出成形)の 技術を応用した、オフィスで使えるメタル3Dプリンティングシステムです。(プリンタのみ) システム構成は、デスクトップ型プリンタと高性能ファーネスの2部構成。従来のワークフローで...

    メーカー・取り扱い企業: Brule Inc. ブルレーインク

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