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特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置
PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…
『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販
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PR【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…
『HND-RA』は、100V電源で使える高圧窒素富化ガス発生装置です。 ボンベを用いずに露点-40℃以下、濃度85%の窒素ガスを吐出・供給でき、 煩わしいボンベの搬送・交換作業が不要に。現場の省力化が可能です。 3種類の吐出圧力範囲に対応し、ロー付け部に負荷をかけない配管気密試験や スケールの少ないパージ作業など、様々な用途に使用できます。 【特長】 ■100V電源で使用可能 ■0~1.0、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サタコ
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昇温時間が速く小型・軽量!卓上とハンディの2通りの使い方ができます
【主な仕様】 放射率:0.99以上 開口径:φ30mm±1mm 温度範囲:[1] 50℃~500℃、[2] 100℃~1000℃ 最大昇温時間:[1] 約22分(室温~500℃)、[2] 約38分(室温~1000℃) 温度精度:[1] 設定値の±0.2%±1.5℃、[2] 設定値の±0.1%±1.5℃ ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンセンサー株式会社
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