超高画素 2億5000万画素/1億2700万画素 CXPカメラ

PR超高画素カメラによる広視野角・超高精細な撮像が可能で、各種MV用途に好…

Sony社製 CMOSセンサ(Pregius IMX661/3.6型)を搭載した、1億2700万画素のCoaXPressカメラ「VCC-127CXP6」と、Canon社製CMOSセンサ(Ll8020SAM/APS-H型)を搭載した、2億5000万画素のCoaXPressカメラ「VCC-250CXP1」。どちらも超高解像度を誇り、各種外観検査(液晶・基板・半導体ウエハ・建築物等の欠陥/異物/形状)、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーアイエス

縦型太陽光電源システム

PR垂直だからメリットいっぱい！太陽光発電は「ヨコ」から「タテ」へ

「縦型太陽光電源システム」は、ソーラーフェンスと EV充電・電源が組み合わされた製品です。 土地を有効活用し、両面パネルでしっかり発電。災害に強い オフグリッドで、どれだけ使ってもCO2排出、電気代がゼロ。 EV車への充電もできるほか、100V電源も取れるので、 災害時などの家電製品の充電にも使えます。 また、当社および日工株式会社と株式会社前川工業所は、 東京ビッグサイトで開催される「20...

メーカー・取り扱い企業： 宇部興機株式会社

高出力単一周波数　半導体レーザー『TopWave 405』　

優れた費用対効果。ガスレーザーの置き換えにホロ・リソグラフィ向けハンズ…

径と M² (typ. 1.15) は、既存のガスレーザのパラメータに合わせて設計されているため、光学系を大幅に変更することなく簡単に従来のシステムに統合することが可能です。 またコヒーレンス長が100m以上と非常に長いため干渉 lithography や holographyにおいて安定したパターン生成が可能になりました。 ガスレーザーは数キロワットの消費電力とハンドリングが煩雑な水冷チラ...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

ることで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されてきたガスレーザーより優位性を備えています。 ・最大数百mWクラスの高出力 ・高いコヒーレンス：100mを超えるコヒーレンス長（<1MHz線幅） ・低いランニングコスト ・深紫外から可視まで豊富な波長ライナップ (波長チューニングオプション) ・堅牢 & 高い信頼性（周波数安定化オプション）...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザー

405nm、1Wの高出力で単一周波数発振を実現。ハンドリングが容易な連…

Holo-Litho 405はホログラフィおよびリソグラフィ用途で一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr イオンガスレーザー(406.7 nmおよび413.1 nm)の代替品として理想的なCWレーザーシステムです。「オール半導体」方式を採用したHolo-Litho 405は消費電力が0.08 W以下であり水冷機器を一切必要としません。また長寿命の半導体レーザーの採用により運用コストを大幅に低減...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部