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  • HSGハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0 製品画像

    HSGハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0

    PRトーチ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0新発売！ダブルワイヤー…

    HSG社製ハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0 より小型になり、より使いやすくなりました。 ファイバー溶接ですから、スピーディーに溶接ができ、溶け込みが良く、見栄えも綺麗な溶接が可能です。 その上、FMW-V2.0は ★ダブルワイヤー送給装置が標準装備！ ★シングルモードだから集光性が優れる！ ★軽量トーチで操作性も抜群！ ★レーザークリーナー、簡易レーザーカッターとし...

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    メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヨコハマシステムズ レーザー事業部

  • 産業機械向けノイズフィルタ：HF-Rx/NF-VZ4シリーズ 製品画像

    産業機械向けノイズフィルタ：HF-Rx/NF-VZ4シリーズ

    PR大電流への対応と小型化・軽量化を両立。最大528Vの電圧に対応。安全規…

    小型化・軽量化と大電流対応を両立した２種類のノイズフィルタ 『HF3000C-Rxシリーズ』『NF3000C-VZ4シリーズ』のご紹介です。 当社従来製品と比べ、大幅な省スペース化を実現。 対応電圧は480Vで、10％(最大528V)の電圧変動に対応可能です。 VZ4シリーズは、省スペース化のニーズに応える高さ１１０ｍｍの低背設計を実現。 Rxシリーズは、高い減衰性能を実現し、202...

    メーカー・取り扱い企業： 双信電機株式会社 東京本社

  • プラズマCVD装置 製品画像

    プラズマCVD装置

    プラズマCVD装置

    PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プロセスでのパッシベーション膜や層間絶縁膜などの均一性とステップカバレージに優れた形成が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

    ● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているた...

    メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

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