両面ポリッシングシステム『EJD-6BY』

多機能コンパクトCMP対応の両面ポリッシング装置誕生!

“Trinity-Y”　シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。　フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。 ...□■□...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

“Trinity-Yシリーズ” EJD-6BY

あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。

“Trinity-Y” シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。 フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。 【仕様...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

高精度両面ラッピングマシーン

省スペース&高精度両面ラッピングマシーンのご紹介！

精密両面ラッピングマシーンEJD-6BYは、特に平行度要求の厳しい素材のラップ加工に適しています。...精密両面ラッピングマシーンEJD-6BYは、特に平行度要求の厳しい素材のラップ加工に適しています。 省スペースを前提に設計されていますので、設置の場所を問わず高精度な両面ラップ加工を行うことが可能です。 □■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■ ★詳しくは、資料・カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

SiCの研削 加工事例

SiCの両面研削を実現！両面研削加工

今後の市場拡大が予想されるSiC(シリコンカーバイド)、 GaN(ガリウムナイトラ)などのパワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜0.5nm (後工程CMP) ■TTV＜2μm/Warp＜10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と 　...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社