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2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…
Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温(2000℃以上)での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1000℃までのプ...
メーカー・取り扱い企業: モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社
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