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PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…
当社は、半導体製造の分野における、 熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。 窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。 イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。 溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。 【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…
『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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