• 【超微細加工】スーパーマイクロシーブ技術※工法比較表&加工例紹介 製品画像

    PR穴径5μm・ピッチ15μm・板厚50μm・超高アスペクト比(板厚÷穴径…

    当社は、エレクトロフォーミング(電鋳)技術による超微細加工や超高精度ふるい、 高耐圧異形穴の開発・受託製造など、 高信頼性・最高品質・用途別設計に貢献します。 超高信頼性『篩』スーパーマイクロシーブや 目詰りしない分級技術を極めた分級装置『S-150W』を開発し、 今後も独創技術を追及し続けます。 【超微細穴加工スーパーマイクロシーブ技術の特長】 ・他のエレクトロフォーミング...(つづきを見る

  • 《熱処理時の歪みにお困りの方必見!》薄物も対応可能な新熱処理法 製品画像

    PR従来の焼入れ方法による歪みを50%削減!薄物でも歪まない新しい表面硬化…

    「N-クエンチ」は、鋼に窒素のみを浸入・拡散し、オーステナイト状態から焼入を行う新しい表面硬化熱処理法です。 窒素を浸入させ焼入を行うことにより、安価なSPCC材でも850HV程度の表面硬度が得られ、内部に窒素が拡散している範囲で硬度を上昇させることが可能です! ~ 只今、試作・テスト加工を募集中! ~ 【Nクエンチ(浸窒焼入)のメリット】 ■部品の代替表面硬化法として有用 ■低ひず...(つづきを見る

  • ビューポートシャッター 製品画像

    スライド式のUHVビューポートシャッター 理想的な光学遮蔽と開放時の…

    スライド式のビューポートシャッターです。従来主流の回転フラッパー式シャッターと比べ、理想的な光学遮蔽状態と開放時の良好な視野が確保できます。 装置取付時のシャッター板駆動空間も不要です。 サイズはCF70~203までラインナップ、特注仕様も対応可能です。...スライド式のビューポートシャッターです。従来主流の回転フラッパー式シャッターと比べ、理想的な光学遮蔽状態と開放時の良好な視野が確保できま...(つづきを見る

  • 【クリーン&高効率】4源同時蒸着可能な電子ビーム蒸着源 製品画像カタログあり

    4源同時蒸着可能な電子ビーム蒸着源です。高い制御性でクリーンな成膜が可…

    用されます。高エネルギーの電子ビームが材料物質の先端にあたり、材料を加熱します。一般的な放射熱または抵抗加熱を利用した方法と比較して、電子ビーム蒸着法には本質的な加熱上限温度はありません。 UHV環境下において高い制御性での材料の蒸着を可能にします。モノレイヤーから100nmまでの膜厚を堆積するアプリケーションに最適です。 標準装備のフラックスモニタリング電極により、各蒸着ポケットから...(つづきを見る

  • 【PID温度制御】6源同時蒸着可能な有機蒸着源 製品画像カタログあり

    最大で6源同時蒸着が可能な有機蒸着源です。PIDコントローラにより各蒸…

    有機蒸着源ORMA(ORganic MAterials)シリーズは、HVおよびUHV環境下で有機材料を堆積するための低温蒸着源です。ORMAを使用することにより、有機薄膜を堆積したり、電子デバイスに有機材料をドープすることが可能になります。有機材料の分子ドーピング効果に...(つづきを見る

  • 薄膜蒸着コントローラー/モニター センサーとフィードスルー 製品画像

    蒸着、スパッタ、高温ベーキング、長時間プロセスなど、あらゆる成膜プロセ…

    組立られていますから、部品を現場で必要に応じて簡単に交換する事ができます。 「crystal 12 Sensor」「crystalSix センサー」「シャッターアセンブリ」「デュアルセンサー」「UHVベーキング対応センサー」「コンパクトセンサー」「スパッタリングセンサー」「標準センサー」などをラインナップしております。 詳しくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 抵抗加熱蒸着源 製品画像カタログあり

    簡単な金属薄膜成長に最適です。ほとんど不純物を含まないクリーンな膜を成…

    抵抗加熱蒸着源TBSシリーズは金属製真空シールが採用されており、250ºCまでのベーキングが可能なUHV対応製品です。ICF152の取付フランジに2つまたは4つのソースが装備されており、クロスコンタミネーションシールドによって、それぞれのソースが分離されています。ソースにはフィラメントまたはボートを取...(つづきを見る

  • ミニチュアエバポレータ 製品画像

    UHV対応の小型蒸発源です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に…

    超高真空対応の小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃加熱に比較して小型です。モノレイヤー単位の蒸着レートで薄膜制御性に優れる点が特徴です。...超高真空対応の小型蒸発源です。電子衝撃加熱蒸発源の一種です。静電場収束によって熱陰極から発生する電子を蒸発材料に照射して蒸発を得ます。磁場収束型の電子衝撃...(つづきを見る

  • 蒸着装置 ロードロック式 AMF-L -Mシリーズ 製品画像

    枚葉式またはドーム搬送機能搭載のロードロック式真空蒸着装置です。

    ロードロック室を備えた真空蒸着装置です。 <特長> ・超高真空ーUHV ・各種基板サイズ対応ー入射角・指向性重視の設計 ・基板冷却機構 <オプション> ・高温加熱 ・材料供給機構 ・アーク放電型イオンプレーティング...(つづきを見る

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