• 産業ガスーヘリウム、三フッ化窒素(NF3) 製品画像

    産業ガスーヘリウム、三フッ化窒素(NF3)

    半導体などの電子デバイスに使用可能な高純度特殊ガスを中国から調達してい…

    【ヘリウム】 主な用途:半導体・エレクトロニクス、医療(MRI装置) 主要取扱グレード:高純度グレード(5N、6N、6N5) 容器:高圧ガス(47Lタイプ) 【三フッ化窒素(NF3)】 主な用途:半導体・液晶製造装置用クリーニング剤、ドライエッチ...

    メーカー・取り扱い企業: ハイケム株式会社

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