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PRプロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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PR現行材料より骨再生能に優れ、高い生体吸収性を特長とする骨再生材料【OC…
当社は東北大学大学院歯学研究科 鈴木治教授との長年にわたる共同研究により、独自に開発した連続式晶析装置(連続フロー合成法)を用いて、安定して均一なOCPを量産化することに成功しました。 ・OCPは骨形成に重要な無機バイオミネラルであるヒドロキシアパタイトの前駆体と言われており、世界的に注目される新しい骨再生材料です。 ・年間20kg(実績値)のOCPの商業生産が可能となりました。 ...
メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社
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技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…
NanoSIMS 50Lの特徴 図2 毛髪の断面構造 図3 NanoSIMS 50Lによる毛髪断面のイオウ(S)のイメージング 図4 SiC中のアルミニウム(Al)、シリコン(Si)、リン(P)の三次元イメージング 図5 SiCデバイスのリン(P)、酸素(O)の二次元イメージングと抽出領域、二次元イメージングから抽出したPのデプスプロファイル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター
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技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価
技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…
図2 As K端FT-EXAFSスペクトル 表1 As K端FT-EXAFSカーブフィッティング結果 図3 アニールありおよびアニールなしにおけるヒ素の状態および周囲構造のイメージ 図4 P K端XANESスペクト...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社東レリサーチセンター
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