- 製品・サービス
3件 - メーカー・取り扱い企業
企業
8件 - カタログ
92件
-
-
◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…
用ソフトウエア標準装備,CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェン生成用,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Dif...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
<30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメー…
ジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, SF6ガス系統要) • SiO2エッチング(*『フッ化ガス供給モジュール』オプション, CHF3ガス系統要) 【仕様】 ◉ 対応基板:〜Φ6inch ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動シーケンス ◉ APC自動圧力...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
- 表示件数
- 45件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。