遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 （特長） ●早い加熱処理 　例その１：自動車ヘッドランプ　溶着後の歪除去　６０分⇒５分 　例その２：ＩＣトレー　射出成形後の寸法安定　２４０分⇒６分 　例その３：人工透析器　射出成形後の内部歪除去　１２０分⇒３分 ●コストダウンに貢献 　...（つづきを見る）

各種金属の熱処理炉、非接触のクリーンな熱源である遠赤外線処理

■FPD用縦型熱処理装置 　・LCDの第1世代から第8世代に対応 　・高効率面状IRヒータを用い、均一な加熱が可能 　・クリーン度Class10対応（FED-STD209E） ■ベルト搬送炉 　・遠赤外線加熱技術により幅広いプロセスに対応 　・スタンダードタイプ焼成炉、高速焼成炉、小型焼成炉、WB式焼成炉、ロープ搬送式乾燥炉、ローラーハース搬送式焼成炉 ■高効率遠赤外線ヒータ...（つづきを見る）

スーパータル　HT （高温用半円筒型、最高炉内温度1675℃）

半円筒系断熱材に二珪化モリブデンヒーター(カンタルスーパーHT)を組み込んだ 高温高出力ヒーターモジュール...□特徴□ ■最高炉内温度1675度 ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、ハーフシリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■タイプ：SHC　HT ■発熱部長さ：150mm ■全長：200mm ■発熱体温度：1700度 ■詳細は、お問い...（つづきを見る）

[ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...（つづきを見る）

ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...【主な仕様】 ・炉内温度Max1200℃, 試料最大温度Max950℃ ・小片試料：数ミリサイズ〜3in...（つづきを見る）

研究・開発向けの、低コストでハイスペックなスピンコーターです。

スピンコーター組込用ドラフトも同時販売します。耐酸・アルカリ仕様も製作します。簡易防爆（安増）仕様や装置パネル分離タイプなど特殊仕様も承ります。詳しくはお問い合わせ下さい。...■仕様　※機種により異なります 【基板サイズ】 φ10～φ200、基板対応　 【カップ（外輪）】 φ220～φ400 【回転範囲／回転数精度】 100～8000rpm/±3rpm以下 【真空Torr（ｍｍHg）】 ...（つづきを見る）

発熱体最高使用温度：1550℃！モジュールヒーター

円筒形ヒーターモジュール　SMU 円筒系断熱材に二珪化モリブデンヒーター(カンタルスーパー)を組み込んだ 高出力ヒーターモジュール...■□特徴□■ ■発熱体最高使用温度：　1550℃ ■炉内　最高使用温度 ：　1500℃ ■急速加熱と正確な温度制御が必要な実験炉や生産炉で使用 ■形状は、シリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■SMUが提供できる機能 ・急速な昇降温...（つづきを見る）

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ：SWR...（つづきを見る）