リレーユニット『URY120-T1』

PR電力量計の負荷側を開閉制御する装置！遠隔制御が可能で屋外(雨線内)でも…

『URY120-T1』は、当社の電子式電力量計120Aと接続することにより、 最大120Aの大電流を開閉制御することができるリレーユニットです。 自動検針システムと組み合わせることで遠隔制御ができ、普通耐候形 電力量計と同一構造のため、屋外(雨線内)でも使用可能。 電力量計の負荷側に接続し、"横配置"または"重ね配置"で設置します。 "重ね配置"の場合、オプションの「ブラケット」が必要となりま...

メーカー・取り扱い企業： 埼広エンジニヤリング株式会社

『21000型グローブ形/21000A型アングル形単座調節弁』

PR多くのプロセス制御に！21000型グローブ弁と21000A型アングル弁…

当製品は、多くのプロセス制御の用途に対応できる様に設計された重荷重型 トップガイドの単座弁です。 【特長】 ・トップガイド式プラグ ・小さな圧力回復と高容量 ・高い締切差圧 ・タイトシャットオフ ・広い適用温度範囲 ・選択された材質 ・シンプルで高性能のトリムパッケージ ・低騒音トリム及びアンチキャビテーショントリム ・ねじ込み式又はクイックチェンジ式のシートリング ・...

メーカー・取り扱い企業： 日本ドレッサー株式会社

インクジェット塗布装置『IP2030L(A4サイズ)』

ウエハ、シート、ガラス、樹脂基板などに！機能性インクを塗布

『IP2030L(A4サイズ)』は、ウエハ、シート、ガラス、樹脂基板などへ 機能性インクを塗布する電子デバイス向けインクジェット塗布装置です。 実験や試作、生産までこれ1台で済み、高精細なパターン塗布が可能。 また、用途に合わせて2タイプのモデルより選択いただけます。 【特長】 ■実験、試作、生産までこれ1台 ■高精細なパターン塗布 ■パターニング・全面・部分塗りに対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

クリーンローラー『RYシリーズ』薄板対応タイプ

薄板対応の除塵装置。 駆動部にマグネットギアを採用！この一台で幅広い…

『薄板対応タイプクリーンローラー』をご紹介いたします。 「RY-1106シリーズ」は、細径の新型クリーンロールを使用 することで、薄板やフイルムの除塵が可能になりました。 また、装置駆動部分にマグネットギアを採用する事により、 ギア部分からの微少発塵を抑制。 この他にも「RFC-705A」、「RF-705A」をご用意しています。 【特長】 ■落ち込み防止 ■巻き込み...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

CFRTP製品向け超音波連続溶着装置『株式会社アドウェルズ製』

独自の超音波溶着技術によって、従来技術では困難だったCFRTPの連続的…

0LS 独自の技術によってCFRTP構造体の溶着を行います。 １、スポットではない連続的溶着が可能 ２、溶着方向に限定が無くワーク形状への高い対応力があります。 ３、A材にて引張強度50MPaの非常に高い接合強度を得た事例もあります。 ４、多軸ロボットに搭載し、大型ワークに対応することも可能 ■UDテープレイアップ装置 超音波によってUDテープを樹脂成型品や金属部品にレイアップしま...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージに...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社