• 【2024年5月22日~24日】2024NEW環境展出展のご案内 製品画像

    【2024年5月22日~24日】2024NEW環境展出展のご案内

    PR取組内容と各製品をご紹介。ブースにて実機デモを実施予定!

    この度、5月22日より東京ビッグサイトで開催される国内最大級の 環境製品の展示会「2024NEW環境展」に弊社の製品を出展します。 飲料容器再資源化システム『ペトリス』『リサイクル4』を展示し、 飲料容器を選別・圧縮する実機デモを実施予定です。 【出展概要】 ■会期:2024年5月22日(水)~24日(金) ■時間:午前10時~午後5時(最終日は午後4時まで) ■会場:東京ビ...

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    メーカー・取り扱い企業: 日工株式会社 事業本部

  •  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」 製品画像

    多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

    リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

    【仕様】 ○到達圧力 6.7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃ 常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高出力RFイオンソース 「ISG-180」 製品画像

    高出力RFイオンソース 「ISG-180」

    広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

    A / ビーム電圧 1500V /  イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10%以下(1300、1550装置にて)の均一性をハイパワーで達成 →Sapio-1300 での測定結果。株式会社昭和真空指定条件に限る ○ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、  確実な着火性能と安定化を図った ○新開発コレクター電極(特許出願中)の採用に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • イオンプレーティング装置 「SIP-1600」 製品画像

    イオンプレーティング装置 「SIP-1600」

    装飾・塗装のドライ化や増産をご検討中のお客様向け

    【仕様】 ○到達圧力 10-4Pa 台 ○排気速度 大気圧より6.7×10-3Pa 迄20 分以内 ○内部治具 自公転式 6軸(Φ440mm×H1650mm/軸:ワーク搭載エリア)            8軸(Φ360mm×H...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像

    ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到達圧力 仕込室 1.0×10^-3Pa以下 SP室 1.0×10^-3Pa以下 ○排気時間 仕込室 2.0×10^-2Pa迄 3分以内       SP室 1.2×10^-2Pa迄 10分以内 ○基板加熱温度 150℃以上を確認 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高真空アニール装置 「SAF-52T-II」 製品画像

    高真空アニール装置 「SAF-52T-II」

    生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

    法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa   差圧:0.2MPa以上       水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事)       流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」 製品画像

    アーク放電型イオンプレーティング装置 「SIA-400T」

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    【仕様】 ○真空槽/φ400×D450 ○到達圧力/10^-3Pa台以下 ○排気速度/6.7×10^-3Paまで15分 ○排気操作方法/自動 ○基板加熱/MAX350℃ ○成膜方法/自動 ○成膜速度/2500Å/min(Tin 100A) ○蒸発電源/...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T 製品画像

    ホローカソード方式 イオンプレーティング装置 SIH-400T

    ドロップレットを減少させるための蒸発源高速回転機構付です。

    340 × D1120 × H1938 ○重量 本機:約1000kg ○所要電力 3Φ AC200V 約29kVA(84A) ○所要水量 約1.6m3/h(約27l/min) 差圧 0.2MPa以上 ○所要圧空 約0.5MPa以上 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

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