GMP仕様対応可能 解砕・分散分級が実現！ 『FSハイシフター』

PR驚異の縦振幅を実現し、解砕・分散分級！超音波発生装置が不要で、微粉・油…

「粉体が目詰まりしてしまう...」「振動で解砕も同時にできれば目詰まりしないのに...」「超音波発生装置は高いし...」こんなお困りごとはございませんか？ 『FSハイシフター』は波動運動によりスクリーン上の材料が激しく跳ね上げられスクリーンに衝突、材料の凝集は解砕・分散され分級効果が増大します ナイロン網による分級の為、ランニングコストが低減！ 網たたきも不要な事からコンタミのリスクを低...

メーカー・取り扱い企業： 日東機器ファインテック株式会社

レーザーマーカー『UBI Basic』

PR安全性が高いClass1製品仕様！高出力パフォーマンスでリーズナブルな…

『UBI Basic』は、アルミ・鉄・SUS等の金属部品、工具、銘板などの 小・中型ワーク向けの高出力でコストパフォーマンスに優れたレーザーマーカーです。 一品一様のマーキング工程に適しており、独自のMicro aWave レーザーソースにより様々な対象物にマーキングが可能。 Z軸ボタンによりステージの昇降、電磁式インターロックを 標準搭載、正面スタートボタンで簡単にマーキング開...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東陽 グローバル商品課

【納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―＋デミスター塔＋充填塔×2基

酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g／Nm…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―＋デミスター塔＋充填塔×2基 の納入事例をご紹介します。 気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、ヒューム、除去し、苛性ソーダ水溶液を 液PH制御にて、注入して酢酸吸収。 除去対象物質の酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g／Nm3 →0.1g／Nm3以下となりました。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】予冷塔＋ベンチュリ―スクラバー(2)

処理ガス量は4568Nm3／h！気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、…

イーテクノが行った、予冷塔＋ベンチュリ―スクラバーの納入事例を ご紹介します。 処理ガス量は4568Nm3／h、温度は60.4℃、白色顔料粉塵を除去対象物質とし、 ばいじん0.2g／Nm3→0.01g／Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環＋補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒子は沈殿させ回収させます。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：予...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社

【環境装置納入事例】アクリル酸メチルガス除去塔

設計値90％以上の除去率！アクリル酸メチルやトルエンなどを除去対象ガス…

イーテクノが行った、アクリル酸メチルガス除去塔の納入事例を ご紹介します。 除去対象ガス・濃度は、アクリル酸メチル200ppm、トルエン1600ppm、 シクロヘキサン100ppm、メタノール20ppm。 処理ガス量は6000m3/hで、設計値90％以上の除去率です。 【事例】 ■納入先業種：化学 ■設計・設置機器：アクリル酸メチルガス除去塔　E730シリーズ ■処理ガ...

メーカー・取り扱い企業： イーテクノ株式会社 本社