可視域ファイバレーザー & アンプ『ALS-VIS』

PR要求の厳しい用途に対応する産業用グレードの性能

・最大10Wの高出力 ・超低強度ノイズ ・高いビームポインティング安定性 ＆ 安定したビーム品質 ・ターンキー、メンテナンスフリーの信頼のあるシステム...半導体産業における高性能計測などの産業アプリケーションや量子コンピューティングのアプリケーションには、極めて安定した信頼性の高い高出力レーザー光源が必要です。 ALS-VISシリーズは革新的なファイバー技術をベースにしたレーザーとアンプで、特...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

【技術資料】焼成依頼前に必読！材料ごとの適切な炉×温度の対応範囲

PR【研究・開発・OEM向け】焼成依頼前に知っておくと便利な《炉の設備×温…

焼成依頼に役立つ『炉×温度×材料の対応範囲』について紹介した本資料は、「大気焼成炉の対応温度とその実績」や「雰囲気焼成炉の対応温度とその実績」、「所有炉の対応温度」などを図を使いながら分かりやすく紹介した資料です。 【掲載内容】 ■よくあるお悩み事 ■加工実績例 ■大気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■雰囲気焼成炉の対応温度及び実績分野 ■所有炉の対応温度 ■分野別の焼成温度域 ■受託加工フロー ...

メーカー・取り扱い企業： 新興窯業株式会社 工場

真空容器事例「小型実験用チャンバー」

真空容器事例「小型実験用チャンバー」

真空容器製作事例 《フレキシブルな受注範囲》 チャンバーだけでなくプラズマ電源、スパッタターゲット、回転導入機構等を含む ユニットとしての対応が可能 《幅広い製作範囲》 材料(SUS,Al,Ti他)、形状(角型、筒型、水冷他) 《グレードに応じた表面処理》 1、酸洗浄：低コスト 2、電解研磨：SMC洗浄、サスピカ、アルピカの高グレード対応可能 3、バフ研磨、各種めっき...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

プローブに原子を採用した表面分析装置（CAICISSの発展版）

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…

半導体製造ガスラインなどに用いられる（株）ピュアロンジャパン製セラミックガスフィルターです。 ...【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar（バルクガス）です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min（60〜180m3/Hr）です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

飛行時間型原子散乱表面分析装置『TOFLAS-3000』

結晶方位・極製は15分で一目瞭然！帯電の影響がなく安定した表面分析が可…

『TOFLAS-3000』は、金属、半導体、絶縁体などの固体表面の結晶構造および 元素分析を同時に行うことができる原子散乱表面分析装置です。 本装置は同軸型直衝突イオン散乱分光法（CAICISS）を発展させ、電気的に中性なHe(Ne、Ar)等の原子ビームを探査プローブとして用いている為、絶縁体でも帯電の影響がなく安定した表面分析が可能です。 結晶表面構造解析では、入射角の全方位スキャ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル