真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

PRギ酸・水素還元両対応！最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気（ギ酸または水素）、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 ＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーテ...

メーカー・取り扱い企業： クロスライトソフトウェアインク日本支社

加熱後の冷却処理不要の「レーザ焼入れシステム」

特殊加工で素材の加熱後の油や水などによる冷却が要りません！

『レーザ焼入れシステム』は、鋼などの金属の表面に照射し、表面の 薄い膜を急速に加熱するシステムです。 この加熱により素材の温度が上昇し、オーステナイト領域は、レーザ光が 通過すると材料内部への熱拡散・熱伝導により急速に冷却します。 そのため、他の焼入れ方法などに行われる素材の加熱後の油や水などによる 冷却が要りません。 レーザを加工ヘッドで照射するだけなので、多関節ロボットを使...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タマリ工業