CMPクロス

加工面の高い平坦性とクロスの高耐久性を実現！CMP用クロスのご紹介

『CMPクロス』は、特殊ポリエステル繊維から成る不織布にポリウレタンを 結合したCMP用クロスです。 加工面の高い平坦性とクロスの高耐久性を実現し、化合物半導体の鏡面加工、 酸化膜の除去等、基板の裏面基準でポリシングを行うことが可能です。 研磨加工における最終工程時やエッジの鏡面仕上げにも適しております。 【特長】 ■特殊ポリエステル繊維から成る不織布にポリウレタンを結合 ...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

研磨剤

ダイヤモンドスラリーやCMP用研磨剤など、様々なラインアップをご用意し…

ムサシノ電子の『研磨剤』をご紹介します。 多結晶と単結晶、水溶性や油性、両性など様々なサンプルに合わせて 選択可能です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■ダイヤモンドスラリー ■GC研磨剤（緑色炭化ケイ素） ■WA研磨剤（白色アルミナ） ■酸化セリウム研磨剤 ■コロイダルシリカ研磨剤 ■CMP用研磨剤 【加工実績のある材料例】...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社