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    第三の光加熱源!LEDアニール装置

    PR加熱効率向上で省エネルギー化!高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

    『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が...

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    メーカー・取り扱い企業: ウシオ電機株式会社

  • 集光照射式赤外線真空炉(IVF298W) 製品画像

    集光照射式赤外線真空炉(IVF298W)

    真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線加熱による急速昇温、…

    ・円筒上真空チャンバー外周には、8個の真空ポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用。 ・上面が大きく開き、試料の設置・取出し作業が容易にできる。 ...最高昇温速度 150℃/sec、加熱時間 1500℃まで約1min 熱源からの放出ガスや電磁誘導の影響を与えないクリーン加熱 高温の試料を観察できるオプションも用意しています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーモ理工

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