第三の光加熱源！LEDアニール装置

PR加熱効率向上で省エネルギー化！高速応答性でサーマルバジェット低減を実現

『LEDアニール装置』は、ハロゲンヒータ、フラッシュランプに次ぐ 第三の光加熱源です。 加熱効率向上で省エネルギー化、高速応答性でサーマルバジェット低減を実現。 放射温度計によるリアルタイム温度計測が可能です。 また、基板表面の加熱ができ、金属材料に優れた加熱効率を発揮します。 【特長】 ■加熱効率向上 ■高速応答性 ■高精度温度計測 ■高均一性 ■基板表面の加熱が...

メーカー・取り扱い企業： ウシオ電機株式会社

大型基板対応装置（成膜、エッチング、アニール）

PR先端パッケージへの展開□510×515mm基板への処理が可能

前工程から後工程まで、一括ラインでのご提案をさせていただきます。 （成膜、エッチング・アッシング、アニール） カスタムメイドのため、必要機能だけを盛り込んだコスト効率の良い設備のご提案を致します。 ...●成膜 生産に適切な装置構成（ロードロックタイプ、インラインタイプなど）をご提案いたします。 必要な機能に応じてカスタムアップが可能です。（加熱室、冷却室、逆スパッタ室 他） ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

技術情報誌 202001-01 in-situ STEM

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

MTJ（magnetic tunnel junction）構造が広く用いられている。このMTJ構造は数nm程度の薄い積層膜から成り、原子レベルでの膜厚やラフネスおよび結晶性が特性を左右する。また、アニール温度によって磁気特性が変化することから、本稿ではin-situ TEMを用いて、加熱に伴う結晶性や元素分布の変化過程をnmレベルで分析した事例を紹介する。 【目次】 １．はじめに ２．試料と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

技術情報誌 202001-02 酸化ガリウムの結晶構造解析

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

【図表】 図１～図13　 断面像、界面層の高分解能TEM像、電子回折パターン、原子分解能平面HAADF-STEM像・STEM像、結晶欠陥の原子分解能平面HAADF-STEM像 イオン注入後、アニール処理後分析結果、注入量、アニール処理温度の異なる試料のCL強度比較、キャリア濃度とdC/dV信号強度の関係...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

技術情報誌 202102-03 XAFSによる半導体中の状態評価

技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

XAFS評価 ５．おわりに 【図表】 図１　As K端XANESスペクトル 図２　As K端FT-EXAFSスペクトル 表１　As K端FT-EXAFSカーブフィッティング結果 図３　アニールありおよびアニールなしにおけるヒ素の状態および周囲構造のイメージ 図４　P K端XANESスペクト...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター